微量水分析仪的产品特点

目前多晶硅生产技术在国内主要是以改良西门子法—闭环式三氯氢硅氢还原法是用氯气和氢气合成氯化氢为主， 氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅， 然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯， 提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD 反应生产高纯多晶硅。然而，游离氧和水分对合成反应极为有害，因为Si-O键比Si-Cl 键更为稳定， 反应产物极易发生氧化和水解，使SiHCl3的产率降低，水解生成的硅胶会堵塞管道，使操作困难，水解产生的盐酸对设备有强烈的腐蚀作用。游离氧或水分还能在硅表面逐渐形成致密的氧化膜，影响正常反应的进行，同时多晶硅生产过程存在大量Cl2、HCl 等腐蚀性气体， 气体中含有的水分超标时就会形成盐酸等腐蚀性物质。为了防止水含量超标腐蚀生产设备，确保设备长期可靠地运行， 必须对某些过程气中水含量进行实时监测。多晶硅生产企业要针对防腐的需要， 实时检测氢中微量水、氯中微量水、氯化氢总管中微量水等，一旦检测到水含量超标， 微量水分析仪将发出报警信号，提醒操作人员检查生产运行情况，为此，必须对生产过程中的微量氧和微量水实时监控。
微量水分析仪具有*的可靠性和测量重复性。新一代传感器在电极和P2O5涂层工艺方面的进展，使之在强腐蚀性气体中的应用成为可能。微量水分析仪产品具有三十年的历史，积累了丰富的生产和现场应用经验。本产品在世界各地占有较大的*。现以成功地应用在空分、炼油、石油化工等领域，使用效果受到好评。
微量水分析仪在下列气体中得到广泛应用，氮、氢、氧、臭氧、氦、氩、氙、乙炔、二氧化碳、氯、甲烷、氟、氟化氢、二氧化硫、硫化氢、天然气和许多其它气体。
仪器特点：
1．安装方便：仪器可以放置在桌面上，可以便携，可以安装在墙壁上， 也可以安装在19#仪表机架上。
2．测量范围宽：从几个PPm到5000PPm均可测量。有液晶显示PPm数值， 也可输出4-20mA模拟量。
3．适应气体广：除了与磷酸起反应的物质、氨气中的水份外，其他气体 中的微量水均可测量。zui典型的应用范围是：惰性气体、碳氢化合物、腐蚀性气体，如氯、氯化氢、二氧化硫等。
4．操作简单、维护量非常小：仪器不用定期标定，直接测量即可。
5．传感器可以再生，因此仪器寿命长。当电极被污染之后，不用再买电 极，操作人员可以按规定要求对电极进行再生，方法非常简便，效果与原电极*一样。而且，这种再生功能可用多次，对电极无损害。一组电极可用8年以上。
6．TMA-202型微量水分仪可以在防爆区工作。探头与放大器之间距离可 达300米，若配置电缆，zui大距离可达1000米。